EUV极紫外光刻技术 三星7nm处理器2018年推出

2017-09-12 19:28来源:TOP数码网 编辑:小白

或许7nm是目前手机处理器极限了...近日,三星宣布7nm和11nm半导体工艺,相关产品将在2018年推出。

三星在二季度的收入一举超越Intel,成为全球第一大半导体公司。这些年受惠于高通骁龙芯片、AMD Ryzen/Vega/Polaris的成功,三星的代工生意不仅风生水起、日进斗金,而且不在不知不觉中走在了制程工艺的最前列。今天,三星宣布,新加入了11nm LPP工艺,其实就是改良后的14nm LPP马甲,不过性能提升了15%,单位面积的功耗降低了10%。

三星7nm处理器

这明显就是对打台积电12nm FinFET,只是二位都不老实,擅自混乱地给制程命名,也难怪这么多年都被Intel贬低,比如“三星10nm=Intel 14nm”。

三星表示,10nm用于旗舰手机,11nm用于中高端,形成差异化,预计2018年上半年在市场投放。

与此同时,三星也成为了市场上最先确认7nm的企业,其7nm LPP定于2018下半年量产,采用EUV极紫外光刻技术。

EUV虽然困难重重,但ASML已经开始出货定型的光刻机。三星也表示,从2014年开始,基于EUV处理了200000片晶圆,目前在256Mb SRAM(静态随机存储器)良率已经达到了80%。
关于11nm和7nm更进一步的细节,三星定于9月15日在东京举办的半导体会议上揭示,未来的技术路线图也会更新。